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[科技新闻] 硅晶圆大厂,踩下刹车键

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发表于 2026-4-11 15:24 | 显示全部楼层 |阅读模式

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在过去几十年的半导体产业周期中,存在一条几乎从未被打破的“铁律”:只要需求增长,上游材料厂必然扩产。但这一轮,这条规律,正在被AI打破。


一边是AI芯片需求持续飙升,甚至被认为将把半导体市场推向2030年1.6万亿美元规模;另一边,却是硅晶圆龙头选择主动“踩刹车”。当市场仍沉浸在以英伟达为首的AI算力狂飙的叙事中时,全球硅晶圆第二大厂SUMCO(胜高)却泼下一盆冷水——推迟两座新晶圆厂建设,甚至主动放弃超过500亿日元的政府补贴。


这背后的根因在于:AI,并没有带来“更多硅片需求”,而是带来了“更难的硅片需求”。


硅晶圆,这个看似最基础的材料,正站在这场变化的风口浪尖。作为集成电路制造的底层载体,硅片长期被视为标准化工业品,其市场也高度集中于信越化学、SUMCO、环球晶、SK Siltron和Siltronic等少数几家厂商。但在AI时代,这一基础材料,正在被重新定义。






SUMCO为何踩刹车?






2023 年,SUMCO 雄心勃勃地计划投资 2250 亿日元,在佐贺县伊万里市和吉野里市分别新建两座先进硅晶圆厂。彼时,全球正处于后疫情时代的缺芯扩产余温中,日本政府更是慷慨承诺了 750 亿日元的巨额补贴。


然而时间来到2026年3月27日,日本硅晶圆大厂SUMCO突然宣布,关于此前于2023年7月14日获批的《经济安全保障推进法》下的“供应稳健计划”,其推迟建厂的修订申请已获得经济产业省(METI)的批准。由于此项决定,日本政府的最高补助金额也由最初的750亿日元调整为193亿日元。


SUMCO在公告中坦言,半导体市场正经历深刻的结构性调整。虽然传统的PC和智能手机市场需求已进入平稳期,但生成式人工智能(Generative AI)的爆发式增长,对高端硅晶圆提出了前所未有的需求。尤其是在2nm及更先进的尖端领域,质量要求日益严苛,预计技术竞争将愈发激烈。


SUMCO公司管理层认为,在当前的竞争格局下,与其盲目追求产能规模的扩张,不如通过升级现有工厂(如佐贺县伊万里市工厂)的生产线,确保能够迅速捕获尖端产品的市场红利。从经济合理性和竞争力的角度来看是最佳决策。






规则重塑:当AI从训练转向推理






过去两年AI产业的主旋律是围绕大模型训练展开,当下AI来到了推理阶段,游戏规则变了。在训练阶段,核心逻辑是堆算力,GPU 通过成千上万个核心进行并行计算,对硅片的需求更多体现在稳。因为训练任务通常在大型数据中心内部进行,即便有单点硬件波动,也可以通过冗余机制弥补。


然而,当范式转移到推理阶段,ASIC开始崛起:为了追求能效比,云端和边缘端开始大量采用针对特定算法优化的 ASIC(专用集成电路)。这些芯片往往采用更紧凑的设计,对晶圆的图案完整性和电特性均匀性要求极高。


存储架构也开始倒挂:训练重DRAM,而推理重NAND(读取速度)。为了让AI响应像真人一样快,TB 级的权重数据需要极速调取。这不仅带动了 300mm 硅片在 3D NAND 高层堆叠(200层以上)中的应用,也对硅片在长期高温高压加工下的热稳定性提出了新挑战。


此外,推理侧对能效比的极致追求,是推动 2nm 甚至更先进制程落地的核心动力。随着工艺进入2nm及以下节点,晶体管结构从FinFET转向GAA,供电网络从前端转向背面供电(BSPDN),同时高NA EUV逐步导入,整个制程系统的误差容忍度正在急剧收缩。


在这一过程中,硅片的角色发生了质变。硅片不再只是被动承载电路的基础材料,而是直接参与到晶体管性能、功耗控制以及多芯片系统稳定性的关键变量。






高端硅晶圆的五个维度






结合SUMCO、信越化学(Shin-Etsu)及环球晶圆(GlobalWafers)三大硅片厂披露的资料,2nm及以下先进制程对硅片的要求已逼近物理极限。


1)极致的平整度


在EUV光刻进入高数值孔径(High-NA)时代后,镜头的焦深(Depth of Focus)变得极浅,任何微小的起伏都会导致图形模糊。先进工艺要求平整度通常需小于 0.12 μm,表面粗糙度(Ra)要求达到 0.15 nm 以下。硅片表面不仅要“平”,还要“匀”。巨头们必须控制硅片表面的纳米级波纹,以防止在先进制程的多层堆叠中产生累积误差。


2)超低缺陷密度


随着晶体管结构从FinFET转向GAA(纳米片堆叠),硅片上的一个微小杂质或位错就可能导致整个纳米片断裂或短路。对于7nm以下先进制程,要求颗粒(Particles)尺寸阈值下探至 45nm甚至更小,且缺陷密度必须低于 0.03 cm⁻²。


晶格完美度:要求使用高纯度的单晶硅(11N级别,即99.999999999%),且必须通过磁控直拉法(MCZ)精确控制氧含量,防止在高温退火过程中形成微小的沉淀。


3)背面加工与减薄要求(BSPDN带来的质变)


这是2nm工艺最显著的特征:背面供电网络(BSPDN)。传统的硅片背面是不处理的,但现在不仅需要双面精密加工,硅片背面现在也要像正面一样进行高精度的金属化和抛光,以连接穿透硅通孔(TSV);还需要极高强度与热稳定性,硅片在减薄后需要承受多层金属线的应力。如果硅片的应力均匀性不好,减薄后会出现翘曲,影响芯片良率。


4)杂质控制的原子级飞跃


金属污染控制:先进节点要求金属污染水平必须低于 1 × 1010 atoms/cm³(相当于在西湖里滴入一滴墨水的稀释程度)。


掺杂精确度:在2nm制程下,阈值电压对掺杂剂的波动极其敏感。大厂必须在晶圆拉制过程中实现原子级的电阻率控制。


5)外延层(Epitaxial Layer)的广泛应用


为了提升电子迁移率,2nm逻辑芯片更多地采用外延硅片(Epi Wafer),即在原始硅片上再长出一层完美的单晶层。相比普通抛光片,外延层可以消除表面附近的晶体缺陷(如COP)。






硅片市场,结构性分化






这种从量到质的逻辑重塑,在 SUMCO 等大厂的最新财报数据中得到了最直观的印证。


用一个词来概括当下的硅晶圆市场,那就是:分化。当下,整个半导体市场正在呈现“AI领域持续强劲增长,非AI领域逐步复苏;(部分)300mm硅片需求旺盛,200mm需求疲软”的态势。


300mm硅片有需求,缺的是高性能硅片


首先从全球市场结构来看,300mm硅片已经毫无争议地成为整个半导体产业的核心底座。从占比上看,当前300mm晶圆在全球硅片市场中占整体需求约60%–75%,是绝对主流规格。


根据SUMCO的预测,300mm尖端产品已成为绝对的增长引擎。从下图可以看出,25年第二季度(2Q)300mm就开始一路上扬,直接冲到了所有年份的最上方,到第四季度(4Q),300mm的需求量已经突破了8,000k片/月。驱动这一轮增长的,是AI数据中心的“三驾马车”——ASIC、DRAM与NAND,而它们无一例外,全部建立在300mm先进硅片之上。


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300mm晶圆片2018年~2025年的走势情况(图源:SUMCO 2025年财报)



看到如此巨大的需求增长,我们的常识是,硅片行业将进入新一轮扩产周期,然而现实恰恰相反。


一个更值得警惕的信号是——客户手里的库存仍然很多。如下图所示,从2023年-2025年第四季度,客户手中300mm的库存水平达到了过去十多年的最高峰。


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300mm硅片的客户库存趋势(图源:SUMCO 2025年财报)



进一步拆分来看,无论逻辑厂还是存储厂,客户的300mmm硅片库存均处在过去十年少见的高位区间,其中存储端的积压尤为明显。




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逻辑和存储厂商300mm硅片的存货情况(图源:SUMCO 2025年财报)



但其中相当一部分晶圆,并不能满足先进制程的要求——例如2nm逻辑或高端HBM所需的超高平整度、低缺陷密度以及极致均匀性。客户目前手里海量的库存里,很多可能是无法用于2nm或高级 HBM 的普通规格片。现在的300mm市场不是缺“量”,而是缺“质”。AI所需要的是极高性能的硅片,因此不能盲目扩充总产能,而是要升级技术。


硅晶圆厂的建设周期通常长达2-3年,如前文所述,SUMCO此前的扩产计划,本质上是基于2022-2023年“缺芯周期”的需求预期。但当产能真正落地时,市场结构需求已经发生根本变化。如果继续按照旧逻辑扩产,很可能带来的不是供给缓解,而是更多无法进入先进制程的库存晶圆。


尽管策略有所微调,但SUMCO 强调,确保日本国内 300mm 尖端硅晶圆稳定供应的核心目标从未改变。这不仅是公司的商业策略,更是履行日本经济安全保障职责的关键一环。


对于备受关注的佐贺县吉野里町新工厂建设计划,SUMCO 表示并未放弃产能扩张,但将采取静观其变的态度。公司将继续密切监测市场动态,并在认为时机成熟时再行启动相关投资决策。


200mm:被边缘化的“存量市场”


如果说300mm代表的是AI时代的“增量引擎”,那么200mm,更像是一个正在被重新定价的“存量市场”。


尽管在AI数据中心需求外溢的带动下,200mm硅片在电源管理、模拟芯片等领域获得了一定边际支撑,但从整体趋势来看,其增长空间已经被明显锁死:一方面,先进制程持续向300mm集中,产业资源不断向更高规格迁移;另一方面,地缘政治与供应链重构,也在进一步扰动其原有的需求结构,使得市场恢复节奏持续放缓。


从下图中我们可以更直观的看出,2025 年 200mm 硅晶圆的需求处于过去 8 年来的最低水平。尽管全年呈现极其缓慢的爬升态势,但整体出货量远低于2021-2022年的巅峰时期,巅峰时期的需求量一度突破了 6,000k 片/月。从 2023 年(灰色菱形线)开始,需求出现断崖式下跌,且2024年和2025年一直徘徊在4000k片/月左右的低谷。


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200mm晶圆片2018年~2025年的走势情况(图源:SUMCO 2025年财报)



这意味着,200mm市场正在进入一个典型的低波动、低弹性阶段:既难以再现周期高点,也缺乏新的结构性增长驱动力。






结语






因此,面对200mm市场如此低迷且复苏乏力的趋势,300mm库存仍然处于高压,且AI又需要更高性能的新规格硅片,继续砸大钱建新厂在经济上是不划算的。这就是为什么 SUMCO 敢在 300mm 需求创新高时,却甘愿接受最高补助金额从750亿砍到193亿,这少了的500多亿,其实是公司看清了“无效库存”后的战略收缩,是对“有效高端产能”的精准投资。


半导体上游的竞争规则已经改变。在库存高企的“后摩尔时代”,产能规模不再是绝对的护城河。SUMCO 的“缓建”,是一场基于商业理性的断臂求生。在 2nm的大门开启之前,如何熬过传统市场的漫长冬季,才是考验巨头底色的真正时刻。




*免责声明:本文由作者原创。文章内容系作者个人观点,半导体行业观察转载仅为了传达一种不同的观点,不代表半导体行业观察对该观点赞同或支持,如果有任何异议,欢迎联系半导体行业观察。
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发表于 2026-4-11 11:54 | 显示全部楼层
之前做芯片研发时就发现,AI芯片对硅片要求高得离谱,SUMCO这波操作太明智了!
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发表于 2026-4-11 14:56 | 显示全部楼层
@元宝 客户手里那么多300mm硅片,却不能用于AI,这“无效库存”到底有多大影响?你怎么看
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发表于 2026-4-11 15:28 | 显示全部楼层
图解新闻:一图读懂
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 楼主| 发表于 2026-4-11 17:19 | 显示全部楼层
这就是日本人的企业思维,既使生意再好,只要业绩达成就不会再盲目扩张。 所以只能做强不能做大,以前我在日本公司上班,日籍的主管都是这样的管理经营精神。
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