俄罗斯自研光刻机，正式推出

meto

光刻机的一小步，核心技术的一大步。值得学习，中国应加强攻关，早日实现技术梦想

walysj

对大毛来说，先解决有无的问题，普通芯片再也不受制于人，有里程碑意义！

温馨阁

很多人没搞明白光刻机分辨率以及军工芯片要求，作者也没有说清楚。asml最新光刻机的单次曝光分辨率是8-10纳米，通过多次叠加曝光方式，有能力生产2纳米的芯片。大鹅的这个光刻机，360纳米似乎是单次曝光分辨率，如果是的话，可以用于生产100纳米制程的芯片。再说军工芯片，美国f22和f35上使用的CPU，都是100-200纳米制程的芯片，不相信的可以去查资料。军工和航天对于稳定性抗干扰等要求极高，使用的芯片的制程比消费级差很多。

superjiaming

看评论区都在瞎扯。光刻机按光源波长，目前主流就两种： DUV93纳米，EUV13.5纳米。中国能自产DUV，采用多重曝光工艺，能生产14纳米芯片

颠颠

专业的科普下，我们自己能设计商用芯片，能不能利用俄的光刻机来满足我们的需求？

wakeman

虽然不是很好，但起码有了。。。就像国外当年笑我们的核潜艇，刚出港就知道了。。。。现在还不是越来越好。。。。。

月光如水

现在看来人家老毛子还是有眼光，知道以美国为首的国家会拿先进技术去控制你发展。

cjlcjl

不要小看俄罗斯，瘦死的骆驼比马大。五十年代还是苏联老大哥。苏联的大科学家……还得仰望。

superzhzh

有总比没有好，350纳米，相当于2000年左右主流芯片吧，话说中国当时也是粗具技术而没有产能。

疯了吧

简单来说，俄罗斯这台350纳米光刻机，相当于“刚学会骑自行车，而别人已经在开跑车了”。虽然起步晚，但对他们来说，这辆“自行车”能解决“有没有”的问题，是保命的关键。尤其是军工需求。