当地时间10月28日,美国新创光刻设备厂商Substrate宣布,他们已开发出一款全新的光刻机,有能力与全球光刻机龙头大厂——荷兰ASML最先进的每台售价接近4亿美元的High NA EUV光刻机竞争。
据介绍,Substrate所开发的是使用X射线作为光源的光刻机,该光源利用粒子加速器产生,波长比ASML最新的High NA EUV光刻机的光源更短,因此能大幅提升分辨率。
Substrate首席执行官James Proud在接受路透社采访时表示,希望通过以比竞争对手更低的成本生产设备,并借此来大幅降低尖端制程芯片的制造成本。