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[科技新闻] 高盛最新研究报告：中国光刻机仍停留在65nm，落后ASML约20年

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ress
  • 打卡等级：功行圆满
  • 打卡总天数：834
发表于 2025-9-3 02:43 | 显示全部楼层
有些技术突破是很难短期通过弯道超车实现的，还是需要面对现实，更多耐心面对长期不断高额资金、人才投入，完全不是键盘侠那样乐观到没边那样。
买正品上京东
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com2
  • 打卡等级：已臻大成
  • 打卡总天数：546
发表于 2025-9-3 09:43 | 显示全部楼层
谢谢楼主分享！
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