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楼主: ress

[科技新闻] 清华团队攻克EUV光刻胶瓶颈，用聚碲氧烷实现18nm线宽新纪录，为下一代EUV光刻胶设计奠定框架

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kingfirefly
  • 打卡等级：功行圆满
  • 打卡总天数：834
发表于 2025-7-29 07:33 | 显示全部楼层
不明觉厉，加油中国🇨🇳
买正品上京东
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com2
  • 打卡等级：已臻大成
  • 打卡总天数：547
发表于 2025-7-29 10:03 | 显示全部楼层
谢谢楼主分享！
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