ress 发表于 2025-9-3 02:43

有些技术突破是很难短期通过弯道超车实现的，还是需要面对现实，更多耐心面对长期不断高额资金、人才投入，完全不是键盘侠那样乐观到没边那样。

com2 发表于 2025-9-3 09:43

谢谢楼主分享！
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查看完整版本: 高盛最新研究报告：中国光刻机仍停留在65nm，落后ASML约20年