kingfirefly 发表于 2025-7-29 07:33

不明觉厉，加油中国🇨🇳

com2 发表于 2025-7-29 10:03

谢谢楼主分享！
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查看完整版本: 清华团队攻克EUV光刻胶瓶颈，用聚碲氧烷实现18nm线宽新纪录，为下一代EUV光刻胶设计奠定框架