gzcom520 发表于 2025-7-29 01:09

最应该点赞的新闻

superzhzh 发表于 2025-7-29 03:03

强者的发型

77898876 发表于 2025-7-29 03:57

向奋斗在光刻胶研究第一线的科技工作者们,致以最崇高的敬意!!

咖啡豆 发表于 2025-7-29 05:11

别公布出来啊,回头被坏人偷了去

wifai 发表于 2025-7-29 05:52

中华民族做菜都有千百种方法,还有啥玩不出新花样?[奋斗]

诛仙九妹 发表于 2025-7-29 06:39

保护好每一位高尖端人才

诛仙九妹 发表于 2025-7-29 06:51

加油!伟大的中国科学家研究团队和中国清华大学化学系许华平教授科研团队成员。加油![点赞][点赞][缅怀][缅怀][缅怀][奋斗][奋斗][奋斗][加油][加油][心][烟花][万众一心][哈哈]

颠颠 发表于 2025-7-29 06:53

聪明的脑袋不长毛[哭笑]

hnn 发表于 2025-7-29 07:16

向科技精英们致敬!辛苦。

dsfgdsg 发表于 2025-7-29 07:32

聪明绝顶
页: 1 [2] 3
查看完整版本: 清华团队攻克EUV光刻胶瓶颈,用聚碲氧烷实现18nm线宽新纪录,为下一代EUV光刻胶设计奠定框架