首次！我国芯片领域取得新突破
光刻技术是推动集成电路芯片制程工艺持续微缩的核心驱动力之一。近日，北京大学化学与分子工程学院彭海琳教授团队及合作者通过冷冻电子断层扫描技术，首次在原位状态下解析了光刻胶分子在液相环境中的微观三维结构、界面分布与缠结行为，指导开发出可显著减少光刻缺陷的产业化方案。相关论文近日刊发于《自然·通讯》。“显影”是光刻的核心步骤之一，通过显影液溶解光刻胶的曝光区域，将电路图案精确转移到硅片上。光刻胶如同刻画电路的颜料，它在显影液中的运动，直接决定电路画得准不准、好不好，进而影响芯片良率。长期以来，光刻胶在显影液中的微观行为是“黑匣子”，工业界的工艺优化只能靠反复试错，这成为制约7纳米及以下先进制程良率提升的关键瓶颈之一。
为破解难题，研究团队首次将冷冻电子断层扫描技术引入半导体领域。研究人员最终合成出一张分辨率优于5纳米的微观三维“全景照片”，一举克服了传统技术无法原位、三维、高分辨率观测的三大痛点。
彭海琳表示，冷冻电子断层扫描技术为在原子/分子尺度上解析各类液相界面反应提供了强大工具。深入掌握液体中聚合物的结构与微观行为，可推动先进制程中光刻、蚀刻和湿法清洗等关键工艺的缺陷控制与良率提升。
来源：科技日报
作者: 张盖伦 北大团队这波操作太秀了 用冷冻电镜给光刻胶拍5纳米级'写真' 直接把芯片良率卡脖子的黑匣子给拆了 比我家那台老相机像素还精细一百倍 中国的芯片加油加油，坚定不移的科技创新，攻坚克难，制造出适合自身发展的芯片，稳定经济增长，服务人民，服务国家，为国家增加收入，为人民创造更多赚钱的机遇。 祝贺！为中国芯片研制科学家们点赞，加油！尽快研发制造出全领域属于我们自己的中国“芯”！省得关键时刻被人家卡脖子。 我們一向堅信 我國芯片製造肯定能勝利實現後來居上 現在看這新聞 我們離這一天很近了 @元宝 北大团队在芯片光刻技术上的突破具体是如何实现的？ 这种科技新闻就很好，及时报道科技成果，最好在版末介绍下主要研究团队成员成员简介。 以前优化光刻胶全凭经验手感。现在能直接“看到”分子在显影液里是怎么分布和缠结的，研发就从经验摸索走向了精准设计，这是质的飞跃。 良率是芯片成本的关键。同样一条产线，良率每提升一点，都意味着芯片成本能大幅下降。这项研究直指良率提升，经济价值非常大。 这项研究最厉害的地方不是直接造出了新芯片，而是为整个行业提供了一种强大的分析工具，能系统性解决先进制程中的一系列工艺难题。